當前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > > 等離子體刻蝕與沉積設(shè)備 > Vision 410等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)
簡要描述：Vision 410等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)--PTI 790+ 系列的延續(xù)，延續(xù)了服務于多樣化市場的成功經(jīng)驗
產(chǎn)品型號：Vision 410廠商性質(zhì)：代理商產(chǎn)品資料：更新時間：2025-09-04訪 問 量： 248產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles詳細介紹
1.靈活的沉積能力
·
基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅（a-Si）、碳化硅（SiC）
·研究與開發(fā)
·原型制作
·小批量生產(chǎn)-光子學、固態(tài)照明、MEMS和納米技術(shù)
·應用領(lǐng)域：層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層
2.性能價值
1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)
2.出色的潔凈度
3.高均勻性
4.高吞吐量
5.可靠的軟件
6.小巧的占地面積
7.具有成本效益
8.易于維護
9.采用行業(yè)頭部組件
3.經(jīng)過驗證的解決方案
·延續(xù)了PTI 790/790+的設(shè)計理念
o手動裝載，無需負載鎖（可支持批次或單片晶圓）
o已安裝超過400套系統(tǒng)
o技術(shù)簡單，結(jié)構(gòu)堅固 價格具有競爭力，品質(zhì)可靠
小巧的占地面積，節(jié)省空間
產(chǎn)品咨詢